Применение высокочастотной плазмы в технологии Дисциплина [Б1.ДВ.2.4.2.1]
021 Кафедра физики плазмы
Скачать .sig
Описание:
В курсе данной дисциплины излагаются основы нерелятивистской теории взаимодействия однородного и пространственно неоднородного электромагнитного излучения СВЧ и лазерного диапазонов длин волн с заряженными частицами слабоионизованной плазмы, основы теории высокочастотного квазипотенциала в неоднородных потоках сверхвысокочастотного излучения в слабых и сильных однородных постоянных магнитных полях, основы теории нагрева слабоионизованной плазмы СВЧ излучением, основы теории распространения и поглощения СВЧ и лазерного излучений в слабоионизованной плазме, основы теории резонансных и нерезонанастных мультипакторных СВЧ разрядов в различных технологических установках, основы теории комплексной диэлектрической проницаемости и комплексной электропроводности плазмы в СВЧ-полях, основы применения слабоионизованной плазмы в экологии и технологии
Структура:
Семестр Всего (ч) (Лекц / Практ. / Лаб.) Аттестация
1 108 (16 / 32 / 0) Экзамен
Итого 108 (16 / 32 / 0) Экзамен
Компетенции:
  • ПК-3 - Способен анализировать научно-техническую информацию, научные проблемы, результаты, перспективы по тематике проводимых исследований и разработок
  • ПК-7 - Способен проектировать, создавать и внедрять новые продукты и системы и применять теоретические знания в реальной инженерной практике
  • ПК-2.2 - Способен применять методы создания и диагностики плазмы в установках термоядерного синтеза и плазменных технологических установках
  • ПК-2.3 - Способен применять методы плазменной обработки материалов и анализа плазменного воздействия на материалы